Shandong Taixing Advanced Material Co., Ltd.
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Idrossido di alluminio precipitato ultra-fine
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Idrossido di alluminio precipitato ultra-fine

L'idrossido di alluminio precipitato fine è considerato un materiale fondamentale di base in campi all'avanguardia come catalizzatori, ceramiche elettroniche e biomedicina a causa della sua distribuzione di dimensioni delle particelle su nanoscala, purezza chimica ultra-alta e attività di superficie unica. Il nostro idrossido di alluminio di alta qualità con basso prezzo nel mercato cinese. Idrossido di alluminio precipitato ultra-fine (AL (OH) 3 CAS n. 21645-51-2) Un ritardante di fiamma di tipo e può essere ampiamente utilizzato in vari tecnologie di elaborazione.

Shandong Taixing New Materials Co., Ltd. è un produttore professionista di idrossido di alluminio precipitato ultra-fine.

Idrossido di alluminio precipitato ultra-fine (AL (OH) 3 CAS n. 21645-51-2) è un tipo ATH con dimensioni delle particelle ultrafine, struttura cristallina regolare, alta purezza, alto bianco, bassa attività superficiale e piccola superficie specifica, area di superficie specifica, altrafino idrossido di aluminio ultrafino può essere utilizzato in vari tecnologie di trasformazione.

Idrossido di alluminio di precipitazione ultra-fine (formula chimica Al (OH) ₃) è una polvere di nano bianca preparata mediante titolazione precisa della soluzione di sale in alluminio e del processo di sintesi idrotermale, con una dimensione media delle particelle di 80-300nm e purezza di ≥ 99,99% (impurità totali <10ppm). Le sue caratteristiche di base derivano da: da: da:

Controllo preciso a livello di nano: usando la tecnologia di precipitazione microfluidica, le particelle sono sferiche monodisperse con una deviazione di distribuzione delle dimensioni delle particelle di ≤ 5% (D50 = 200nm, D90-D10≤20nm) , La superficie specifica raggiunge 100-150 m ²/g, e l'attività di reazione è aumentata di 4 volte.

Garanzia ad alta purezza: attraverso i processi di rimozione della separazione della membrana e della chelazione, il contenuto di ioni di impurità come Fe, NA, SI, ecc. È tutto inferiore alle 1pm

Design di funzionalizzazione superficiale: regolando le condizioni di precipitazione, è possibile controllare la densità di idrossile di superficie (- OH), carbossil (- COOH) e altri gruppi funzionali (0,5-5,0 mmol/g) per soddisfare diversi requisiti di modifica dell'interfaccia.

Proprietà fisiche e chimiche

Elementi Unità Indice
Al (OH) 3 % ≥99,4
SiO2 % ≤0,02
Fe2o3 % ≤0,02
Na2o % ≤0.3
Na2o (solubile) % ≤0.015
Umidità % ≤0.3
Perdita sull'accensione (600 ℃) % 34,5 ± 0,5
Candore % ≥96
Dimensione delle particelle D50, diffrazione laser μm 1.2 ~ 1.6
Dimensione delle particelle D50, diffrazione laser μm 1.6 ~ 2.1
Valore del pH 8.0-10.0
Assorbimento dell'olio (olio di semi di lino) ML/100G ≤40
Conducibilità elettrica US/CM ≤30
Residui sul setaccio % ≤0,01


Vantaggio chiave:

Basso Na2o%: (Na2o%solubile ≤0,015%)

Bassa conduttività elettrica : ≤30μs/cm

Basso contenuto di residui (al setaccio) : ≤0,01% (400mesh)

Meno macchie e impurità nere : ≤25/100 gramma

Applicazione:Consigliato per essere utilizzato in fili e cavi, piastre rivestite di rame (CCL), isolanti compositi, materiale di isolamento termico, ecc.

1. Catalizzatori e materiali energetici

Cella a combustibile:

Come materiale di riempimento per la membrana di scambio di protoni (PEM), le nanoparticelle sono uniformemente disperse nella matrice polimerica, aumentando la conduttività del protone del 15% e migliorando la resistenza meccanica dello strato di membrana (resistenza alla trazione ≥ 50mpa).

Materiali fotocatalitici:

Dopo il caricamento di TiO ₂, si forma una struttura del guscio centrale (al (OH) ₃@tio₂), che aumenta l'efficienza di assorbimento della luce del 40%. Se utilizzato per il trattamento delle acque reflue organiche, il tasso di degradazione del COD raggiunge 0,2 mg/(l · min).

2. Informazioni elettroniche e semiconduttori

Substrato ceramico avanzato:

Utilizzato per il processo di cottura a bassa temperatura in ceramica (LTCC), il riempimento di nano a livello di nano rende la densità del substrato ≥ 99%e la costante dielettrica (ε) stabile a 8,5 ± 0,2, adatta per i moduli antenna della stazione base 5G.

Adesivo per l'imballaggio a semiconduttore:

Aggiunta alla resina epossidica (importo di riempimento del 50vol%), la conducibilità termica viene aumentata a 4,0 W/(M · K) e il coefficiente di espansione termica (CTE) è ridotto a 6 ppm/℃, soddisfacendo i requisiti di affidabilità del packaging a livello di chip (CSP).

3. Biofarmaceutica e preparati di fascia alta

Sistema di rilascio di farmaci mirato:

Dopo l'accoppiamento superficiale con la modifica dell'acido folico (FA), può colpire accuratamente le cellule tumorali, con un carico di farmaco fino al 30% (p/p) e un'emivita di rilascio di farmaci in vitro esteso di 48 ore.

Eccipienti di grado di iniezione:

Se utilizzata come adiuvante del vaccino, l'uniformità della dimensione delle particelle (CV ≤ 5%) garantisce una risposta immunitaria coerente e l'efficienza di adsorbimento dell'antigene è doppio di adiuvanti tradizionali in alluminio.

Confezione:Peso netto 25 kg/sacchetto, busta di carta composta

Archiviazione e attenzione:Mantenere le condizioni di asciuga, a temperatura ambiente e a prova di umidità, prevenendo il riscaldamento

Ultra Fine Precipitated Aluminum HydroxideUltra Fine Precipitated Aluminum HydroxideUltra Fine Precipitated Aluminum HydroxideUltra Fine Precipitated Aluminum HydroxideUltra Fine Precipitated Aluminum Hydroxide

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